<?xml version="1.0" encoding="utf-8"?>
<TEI xmlns="http://www.tei-c.org/ns/1.0" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xmlns:hal="http://hal.archives-ouvertes.fr/" xmlns:gml="http://www.opengis.net/gml/3.3/" xmlns:gmlce="http://www.opengis.net/gml/3.3/ce" version="1.1" xsi:schemaLocation="http://www.tei-c.org/ns/1.0 http://api.archives-ouvertes.fr/documents/aofr-sword.xsd">
  <teiHeader>
    <fileDesc>
      <titleStmt>
        <title>HAL TEI export of hal-01941808</title>
      </titleStmt>
      <publicationStmt>
        <distributor>CCSD</distributor>
        <availability status="restricted">
          <licence target="https://creativecommons.org/publicdomain/zero/1.0/">CC0 1.0 - Universal</licence>
        </availability>
        <date when="2026-05-23T23:47:26+02:00"/>
      </publicationStmt>
      <sourceDesc>
        <p part="N">HAL API Platform</p>
      </sourceDesc>
    </fileDesc>
  </teiHeader>
  <text>
    <body>
      <listBibl>
        <biblFull>
          <titleStmt>
            <title xml:lang="en">The rise of mesoporous silica films in electrochemistry</title>
            <title xml:lang="fr">L’essor des films de silice mésoporeuse en électrochimie</title>
            <author role="aut">
              <persName>
                <forename type="first">Alain</forename>
                <surname>Walcarius</surname>
              </persName>
              <email type="md5">6275277c80ebfb6cd9f3b2266dee3e06</email>
              <email type="domain">univ-lorraine.fr</email>
              <idno type="idhal" notation="string">alain-walcarius</idno>
              <idno type="idhal" notation="numeric">18935</idno>
              <idno type="halauthorid" notation="string">4753-18935</idno>
              <idno type="RESEARCHERID">http://www.researcherid.com/rid/G-2727-2013</idno>
              <idno type="ORCID">https://orcid.org/0000-0003-3633-200X</idno>
              <idno type="IDREF">https://www.idref.fr/07590053X</idno>
              <idno type="RESEARCHERID">http://www.researcherid.com/rid/http://www.researcherid.com/rid/G-2727-2013</idno>
              <affiliation ref="#struct-534741"/>
            </author>
            <editor role="depositor">
              <persName>
                <forename>Alain</forename>
                <surname>Walcarius</surname>
              </persName>
              <email type="md5">6275277c80ebfb6cd9f3b2266dee3e06</email>
              <email type="domain">univ-lorraine.fr</email>
            </editor>
          </titleStmt>
          <editionStmt>
            <edition n="v1" type="current">
              <date type="whenSubmitted">2018-12-02 14:39:31</date>
              <date type="whenModified">2025-11-04 14:22:55</date>
              <date type="whenReleased">2018-12-02 14:39:31</date>
              <date type="whenProduced">2018</date>
            </edition>
            <respStmt>
              <resp>contributor</resp>
              <name key="146296">
                <persName>
                  <forename>Alain</forename>
                  <surname>Walcarius</surname>
                </persName>
                <email type="md5">6275277c80ebfb6cd9f3b2266dee3e06</email>
                <email type="domain">univ-lorraine.fr</email>
              </name>
            </respStmt>
          </editionStmt>
          <publicationStmt>
            <distributor>CCSD</distributor>
            <idno type="halId">hal-01941808</idno>
            <idno type="halUri">https://hal.univ-lorraine.fr/hal-01941808</idno>
            <idno type="halBibtex">walcarius:hal-01941808</idno>
            <idno type="halRefHtml">&lt;i&gt;L'Actualité Chimique&lt;/i&gt;, 2018, 430-431, pp.73-78. &lt;a target="_blank" href="https://dx.doi.org/10.1021/cm8029664"&gt;&amp;#x27E8;10.1021/cm8029664&amp;#x27E9;&lt;/a&gt;</idno>
            <idno type="halRef">L'Actualité Chimique, 2018, 430-431, pp.73-78. &amp;#x27E8;10.1021/cm8029664&amp;#x27E9;</idno>
            <availability status="restricted"/>
          </publicationStmt>
          <seriesStmt>
            <idno type="stamp" n="CNRS">CNRS - Centre national de la recherche scientifique</idno>
            <idno type="stamp" n="UNIV-LORRAINE">Université de Lorraine</idno>
            <idno type="stamp" n="INC-CNRS">Institut de Chimie du CNRS</idno>
            <idno type="stamp" n="LCPME-UL">LCPME - Laboratoire de Chimie Physique et Microbiologie pour les Matériaux et l'Environnement</idno>
            <idno type="stamp" n="TEST-HALCNRS">Collection test HAL CNRS</idno>
            <idno type="stamp" n="CPM-UL">Pôle scientifique Chimie et Physique Moléculaire de l'Université de Lorraine</idno>
          </seriesStmt>
          <notesStmt>
            <note type="commentary">juin-juillet-août 2018</note>
            <note type="audience" n="2">International</note>
            <note type="popular" n="0">No</note>
            <note type="peer" n="1">Yes</note>
          </notesStmt>
          <sourceDesc>
            <biblStruct>
              <analytic>
                <title xml:lang="en">The rise of mesoporous silica films in electrochemistry</title>
                <title xml:lang="fr">L’essor des films de silice mésoporeuse en électrochimie</title>
                <author role="aut">
                  <persName>
                    <forename type="first">Alain</forename>
                    <surname>Walcarius</surname>
                  </persName>
                  <email type="md5">6275277c80ebfb6cd9f3b2266dee3e06</email>
                  <email type="domain">univ-lorraine.fr</email>
                  <idno type="idhal" notation="string">alain-walcarius</idno>
                  <idno type="idhal" notation="numeric">18935</idno>
                  <idno type="halauthorid" notation="string">4753-18935</idno>
                  <idno type="RESEARCHERID">http://www.researcherid.com/rid/G-2727-2013</idno>
                  <idno type="ORCID">https://orcid.org/0000-0003-3633-200X</idno>
                  <idno type="IDREF">https://www.idref.fr/07590053X</idno>
                  <idno type="RESEARCHERID">http://www.researcherid.com/rid/http://www.researcherid.com/rid/G-2727-2013</idno>
                  <affiliation ref="#struct-534741"/>
                </author>
              </analytic>
              <monogr>
                <idno type="halJournalId" status="VALID">23561</idno>
                <idno type="issn">0151-9093</idno>
                <idno type="eissn">2105-2409</idno>
                <title level="j">L'Actualité Chimique</title>
                <imprint>
                  <publisher>Société chimique de France (SCF)</publisher>
                  <biblScope unit="volume">430-431</biblScope>
                  <biblScope unit="pp">73-78</biblScope>
                  <date type="datePub">2018</date>
                </imprint>
              </monogr>
              <idno type="doi">10.1021/cm8029664</idno>
            </biblStruct>
          </sourceDesc>
          <profileDesc>
            <langUsage>
              <language ident="fr">French</language>
            </langUsage>
            <textClass>
              <keywords scheme="author">
                <term xml:lang="en">supramolecular chemistry</term>
                <term xml:lang="en">thin films</term>
                <term xml:lang="en">mesoporous materials</term>
                <term xml:lang="en">sol-gel process</term>
                <term xml:lang="en">Electrochemistry</term>
                <term xml:lang="fr">matériaux mésoporeux</term>
                <term xml:lang="fr">films minces</term>
                <term xml:lang="fr">chimie supramoléculaire</term>
                <term xml:lang="fr">procédé sol-gel</term>
                <term xml:lang="fr">Électrochimie</term>
              </keywords>
              <classCode scheme="halDomain" n="chim.anal">Chemical Sciences/Analytical chemistry</classCode>
              <classCode scheme="halTypology" n="ART">Journal articles</classCode>
              <classCode scheme="halOldTypology" n="ART">Journal articles</classCode>
              <classCode scheme="halTreeTypology" n="ART">Journal articles</classCode>
            </textClass>
            <abstract xml:lang="en">
              <p>Ordered mesoporous silica films exhibiting vertically-aligned nanopore channels can be obtained by combining sol-gel chemistry, surfactant physico-chemical properties and electrode polarization, according to an electrochemically induced self-assembly mechanism. The method is based on the application of a cathodic potential likely to organize transient hemi-micelles of cationic surfactant onto the electrode surface and to induce simultaneously a pH increase inducing the polycondensation of silica precursors around the surfactant template at the electrode/solution interface, generating thereby the vertical growth of a mesoporous film.One can also combine this approach with “click chemistry” in order to generate functionalized mesoporous silica films with well-defined properties, giving rise to nanoscale reactors bearing a high number of easily accessible organofunctional groups. The accurate control of orientation and the versatility of the functionalization process open new avenues in applied fields such as sensors, semi-permeable membranes and nanotechnologies.</p>
            </abstract>
            <abstract xml:lang="fr">
              <p>Des films de silice organisés à l’échelle nanométrique et présentant une structure mésoporeuse verticalement orientée peuvent être obtenus en combinant la chimie sol-gel, la physico-chimie des tensioactifs et la polarisation d’électrode, selon un mécanisme d’auto-assemblage induit par électrochimie. La méthode est basée sur une polarisation cathodique conduisant à la formation transitoire d’hémi-micelles de tensioactif cationique à la surface de l’électrode et induisant une montée de pH à l’interface électrode/solution initiant la polycondensation des précurseurs inorganiques autour du porogène, résultant en une croissance orthogonale d’un film mésostructuré.Il est également possible de combiner cette approche avec la « chimie clic » pour générer des films mésoporeux fonctionnalisés à propriétés dédiées, donnant naissance à de véritables nanoréacteurs incorporant un grand nombre de groupements fonctionnels aisément accessibles. Le contrôle de l’orientation et la souplesse de fonctionnalisation ouvrent de nouvelles voies d’application dans des domaines tels que les capteurs, les membranes à perméabilité sélective et les nanotechnologies.</p>
            </abstract>
          </profileDesc>
        </biblFull>
      </listBibl>
    </body>
    <back>
      <listOrg type="structures">
        <org type="laboratory" xml:id="struct-534741" status="VALID">
          <idno type="IdRef">169267970</idno>
          <idno type="RNSR">199412610M</idno>
          <idno type="IdUnivLorraine">[UL]RPC--</idno>
          <idno type="ROR">https://ror.org/03nknpw16</idno>
          <orgName>Laboratoire de Chimie Physique et Microbiologie pour les Matériaux et l'Environnement</orgName>
          <orgName type="acronym">LCPME</orgName>
          <date type="start">2018-01-01</date>
          <desc>
            <address>
              <addrLine>Université de Lorraine, 405 rue de Vandoeuvre, 54600 Villers-les-Nancy</addrLine>
              <country key="FR"/>
            </address>
            <ref type="url">http://www.lcpme.cnrs-nancy.fr/</ref>
          </desc>
          <listRelation>
            <relation active="#struct-341038" type="direct"/>
            <relation active="#struct-413289" type="direct"/>
            <relation name="UMR7564" active="#struct-441569" type="direct"/>
          </listRelation>
        </org>
        <org type="institution" xml:id="struct-341038" status="VALID">
          <idno type="IdRef">232435103</idno>
          <idno type="ISNI">000000010626358X</idno>
          <idno type="ROR">https://ror.org/02cte4b68</idno>
          <orgName>Institut de Chimie - CNRS Chimie</orgName>
          <orgName type="acronym">INC-CNRS</orgName>
          <date type="start">2009-10-01</date>
          <desc>
            <address>
              <addrLine>CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE3 rue Michel-Ange75794 PARIS CEDEX 16 - France</addrLine>
              <country key="FR"/>
            </address>
            <ref type="url">http://www.cnrs.fr/inc</ref>
          </desc>
        </org>
        <org type="institution" xml:id="struct-413289" status="VALID">
          <idno type="IdRef">157040569</idno>
          <idno type="IdUnivLorraine">[UL]100--</idno>
          <idno type="ROR">https://ror.org/04vfs2w97</idno>
          <orgName>Université de Lorraine</orgName>
          <orgName type="acronym">UL</orgName>
          <date type="start">2012-01-01</date>
          <desc>
            <address>
              <addrLine>34 cours Léopold - CS 25233 - 54052 Nancy cedex</addrLine>
              <country key="FR"/>
            </address>
            <ref type="url">http://www.univ-lorraine.fr/</ref>
          </desc>
        </org>
        <org type="regroupinstitution" xml:id="struct-441569" status="VALID">
          <idno type="IdRef">02636817X</idno>
          <idno type="ISNI">0000000122597504</idno>
          <idno type="ROR">https://ror.org/02feahw73</idno>
          <orgName>Centre National de la Recherche Scientifique</orgName>
          <orgName type="acronym">CNRS</orgName>
          <date type="start">1939-10-19</date>
          <desc>
            <address>
              <country key="FR"/>
            </address>
            <ref type="url">https://www.cnrs.fr/</ref>
          </desc>
        </org>
      </listOrg>
    </back>
  </text>
</TEI>