Article Dans Une Revue
Thin Solid Films
Année : 1995
Odile BARRES : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-lorraine.fr/hal-02559902
Soumis le : jeudi 30 avril 2020-18:48:54
Dernière modification le : mercredi 18 septembre 2024-10:20:04
Citer
N.Hadj Zoubir, M. Vergnat, T. Delatour, A. Burneau, Ph. de Donato, et al.. Natural oxidation of annealed chemically etched porous silicon. Thin Solid Films, 1995, 255 (1-2), pp.228-230. ⟨10.1016/0040-6090(94)05659-2⟩. ⟨hal-02559902⟩
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