Structural, chemical and optical characterizations of nanocrystallized AlN:Er thin films prepared by r.f. magnetron sputtering - Université de Lorraine Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Materials Science and Engineering: B Année : 2008

Structural, chemical and optical characterizations of nanocrystallized AlN:Er thin films prepared by r.f. magnetron sputtering

Caracterisations structurales, chimiques et optiques de films minces AlN:Er préparés par pulvérisation magnétron r.f.

P. Miska
  • Fonction : Auteur
H. Rinnert
  • Fonction : Auteur
D. Genève
  • Fonction : Auteur
P. Pigeat
  • Fonction : Auteur

Résumé

Nanocrystalline n-AlN:Er thin films were deposited on (001) Silicon substrates by r. f. magnetron sputtering at room temperature to study the correlation between 1.54 μm IR photoluminescence (PL) intensity, AlN crystalline structure and Er concentration rate. This study first presents how Energy-Dispersive Spectroscopy of X-rays (EDSX) Er Cliff Lorimer sensitivity factor alpha = 5 is obtained by combining EDSX and electron probe micro analysis (EPMA) results on reference samples. It secondly presents the relative PL intensities of nanocrystallized samples prepared with identical sputtering parameters as a function of the Er concentration. The structure of crystallites in AlN films is observed by transmission electron microscopy.
Des couches minces nanocrystalline n-AlN:Er ont été déposées à température ambiante sur des substrats (001) de silicium par r. f. pulvérisation magnétron pour étudier la corrélation entre la photoluminescence 1,54 μm IR (PL), la structure cristalline AlN et le taux de concentration en Er. Cette étude présente d’abord comment le facteur de sensibilité alpha de Cliff Lorimer de la spectroscopie à dispersion d’énergie des rayons X (EDSX) = 5 est obtenu en combinant les résultats de l’analyse EDSX et ceux de la micro-sonde électronique (EPMA) sur des échantillons de référence. Il présente ensuite l'évolution des intensités de PL relatives des échantillons nanocristallisés préparés avec des paramètres de pulvérisation identiques en fonction de la concentration d’Er. La structure des cristallites dans les films AlN est observée par microscopie électronique de transmission.
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hal-02956523 , version 1 (23-10-2020)

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Citer

Valerie Brien, P. Miska, H. Rinnert, D. Genève, P. Pigeat. Structural, chemical and optical characterizations of nanocrystallized AlN:Er thin films prepared by r.f. magnetron sputtering. Materials Science and Engineering: B, 2008, 146 (1-3), pp.200-203. ⟨10.1016/j.mseb.2007.07.018⟩. ⟨hal-02956523⟩
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