Molecular Sieving with Vertically Aligned Mesoporous Silica Films and Electronic Wiring through Isolating Nanochannels

Abstract : no abstract
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Article dans une revue
Chemistry of Materials, American Chemical Society, 2016, 28 (8), pp.2511-2514. 〈10.1021/acs.chemmater.6b00716〉
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https://hal.univ-lorraine.fr/hal-01505214
Contributeur : Lcpme Ul <>
Soumis le : mardi 11 avril 2017 - 10:05:49
Dernière modification le : jeudi 24 mai 2018 - 10:32:01

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Citation

Neus Vilà, Erwan André, Roberto Ciganda, Jaime Ruiz, Didier Astruc, et al.. Molecular Sieving with Vertically Aligned Mesoporous Silica Films and Electronic Wiring through Isolating Nanochannels. Chemistry of Materials, American Chemical Society, 2016, 28 (8), pp.2511-2514. 〈10.1021/acs.chemmater.6b00716〉. 〈hal-01505214〉

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