Interstitial carbon defects in silicon. A quantum mechanical characterization through the infrared and Raman spectra - Université de Lorraine
Article Dans Une Revue Journal of Computational Chemistry Année : 2021

Interstitial carbon defects in silicon. A quantum mechanical characterization through the infrared and Raman spectra

Domaines

Chimie théorique et/ou physique

Fabien PASCALE  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.univ-lorraine.fr/hal-03424366

Soumis le : mercredi 10 novembre 2021-14:35:12

Dernière modification le : mercredi 30 octobre 2024-13:24:36

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Dates et versions

hal-03424366 , version 1 (10-11-2021)

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Citer

Alexander Platonenko, Francesco Silvio Gentile, Fabien Pascale, Philippe d'Arco, Roberto Dovesi. Interstitial carbon defects in silicon. A quantum mechanical characterization through the infrared and Raman spectra. Journal of Computational Chemistry, 2021, 42 (12), pp.806-817. ⟨10.1002/jcc.26500⟩. ⟨hal-03424366⟩

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