The spectroscopic characterization of interstitial oxygen in bulk silicon: A quantum mechanical simulation - Université de Lorraine Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Chemical Physics Année : 2020

The spectroscopic characterization of interstitial oxygen in bulk silicon: A quantum mechanical simulation

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03424382 , version 1 (10-11-2021)

Identifiants

Citer

Francesco Silvio Gentile, Alessandro Difalco, Fabien Pascale, Simone Salustro, William Mackrodt, et al.. The spectroscopic characterization of interstitial oxygen in bulk silicon: A quantum mechanical simulation. Journal of Chemical Physics, 2020, 152 (5), pp.054502. ⟨10.1063/1.5139564⟩. ⟨hal-03424382⟩
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