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Etude des comportements en champ et en température des défauts induits par effet tunnel Fowler-Nordheim dans des oxydes de grille minces et ultra-minces de capacité MOS au silicium

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https://hal.univ-lorraine.fr/tel-01748594
Contributor : Thèses Ul <>
Submitted on : Thursday, March 29, 2018 - 11:42:30 AM
Last modification on : Monday, April 16, 2018 - 10:40:18 AM
Long-term archiving on: : Friday, September 14, 2018 - 9:35:23 AM

File

SCD_T_1993_0049_EL_HDIY.pdf
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Identifiers

  • HAL Id : tel-01748594, version 1

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Abdelillah El Hdiy. Etude des comportements en champ et en température des défauts induits par effet tunnel Fowler-Nordheim dans des oxydes de grille minces et ultra-minces de capacité MOS au silicium. Autre [cond-mat.other]. Université Henri Poincaré - Nancy 1, 1993. Français. ⟨NNT : 1993NAN10049⟩. ⟨tel-01748594⟩

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