Recherche et développement d'un procédé de photolithographie "offset" - Université de Lorraine Accéder directement au contenu
Thèse Année : 1992

Research and development of an offset photolithographic process

Recherche et développement d'un procédé de photolithographie "offset"

Sylvie Champion
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 789951
  • IdRef : 193821362

Résumé

The aim of the present study was to develop an original process for the production of offset lithographic plates, based on chromium-plated steel rather than anodized aluminium. The INNOLITH Company project is an attempt at filling for the absence of a French production of offset plates on a large scale. Furthermore, a chromium-plated surface is superior to traditional anodized aluminium surface, in both copy accuracy and print features of the offset plate. The work, both therorical and experimental, was developed in laboratories for research (GRAPP-ENSIC) and for analysis (INNOLITH), as well as on the production line. It corresponds to studies related to the different elements to be considered for the making of an offset plate and its use in printing. These elements are the metal base with its surface treatment (cleaning, chromium plating, rugosity), the sub-layer and its role on both metal base hydrophilic behavior and adherence of resins, and finally the photosensitive coating (i.e. resins) which governs the copy time and the print features. The project was not totally concluded, in part because of the absence of a pilot step between the patented idea and the industrial production (process feasibility) , and also because of the lack of financial and available manpower to be able to define and control the parameters of interest
L’étude réalisée a pour objectif le développement d’un procédé original de production industrielle en continu de plaques lithographiques « offset » utilisant un support en acier chromé et non plus en aluminium anodisé. Le projet de la Société INNOLITH répond à deux réalités : d’une part, l’absence d’une production française à grande échelle de plaques « offset » et d’autre part, au fait que la surface chromée est supérieure à la surface aluminium anodisée traditionnelle, en termes de fidélité de reproduction et de qualité d’impression pour la plaque « offset ». Les activités développées, aussi bien théoriques qu’expérimentales, ont eu pour cadre les laboratoires de recherche (GRAPP-ENSIC) et d’analyse (laboratoire d’INNOLITH), ainsi que la ligne de production. Elles correspondent à des études relatives aux différents éléments à considérer lors de la fabrication et de l’utilisation en imprimerie d’une plaques « offset ». Il s’agit du support métallique associé à divers traitements de surface (dégraissage, décapage, chromage, étude de la rugosité), de la sous-couche interférant sur l’hydrophilie du support et sur l’accrochage de la résine, et bien sûr de la couche photosensible (i.e. résine) qui gère la rapidité de la copie et la qualité de l’impression. Le projet n’a pu être totalement mené à son terme, en grande partie à cause de l’absence d’une étape pilote entre la mise en application du procédé breveté et la fabrication industrielle (faisabilité du procédé) mais aussi par manque de disponibilités (finances et temps d’investigation), pour être à même de définir et de contrôler tous les paramètres d’intérêt

Domaines

Autre
Fichier non déposé

Dates et versions

tel-01752286 , version 1 (29-03-2018)

Identifiants

  • HAL Id : tel-01752286 , version 1

Accès intranet

Citer

Sylvie Champion. Recherche et développement d'un procédé de photolithographie "offset". Autre. Institut National Polytechnique de Lorraine, 1992. Français. ⟨NNT : 1992INPL043N⟩. ⟨tel-01752286⟩
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