Article Dans Une Revue
Journal of Materials Science: Materials in Electronics
Année : 2019
Raphaël Schneider : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-lorraine.fr/hal-02939434
Soumis le : mardi 15 septembre 2020-15:47:57
Dernière modification le : mardi 12 septembre 2023-10:22:03
Citer
Faycal Chandoul, Hatem Moussa, Karima Jouini, Abdelwaheb Boukhachem, Faouzi Hosni, et al.. Investigation of the properties of nanostructured nickel oxide NiO thin films irradiated at different γ-doses. Journal of Materials Science: Materials in Electronics, 2019, 30 (1), pp.348-358. ⟨10.1007/s10854-018-0299-z⟩. ⟨hal-02939434⟩
Collections
181
Consultations
0
Téléchargements