Realization and characterization of an atomic oxygen source : eapplication to the deposition of high critical temperature superconductive thin films obtained by RF sputtering
Mise au point et caractérisation d'une source d'oxygène atomique : application au dépôt de couches minces supraconducteurs à haute température critique obtenues par pulvérisation cathodique
Résumé
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Un dispositif de production d'oxygène atomique est mis au point, utilisant une décharge radiofréquence de type onde de surface. Celle-ci est produite dans un tube de quartz cylindrique contenant de l'oxygène en flux et caractérisée au moyen d'une série de diagnostics spectroscopiques et hyperfréquences. Cette source est ensuite utilisée pour l'oxygénation de couches mince supraconductrices à haute température critique