In situ control of AlCuFe thin film crystallization using optical pyrometry

N. Bonasso; C. Petitot; Didier Rouxel; P. Pigeat

doi:10.1016/j.tsf.2005.03.029

Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2005

In situ control of AlCuFe thin film crystallization using optical pyrometry

, , (1) ,

1

N. Bonasso

Fonction : Auteur
PersonId : 740973
IdHAL : nathalie-allain
ORCID : 0000-0003-4165-7941
IdRef : 074028626

C. Petitot

Fonction : Auteur

Didier Rouxel

Fonction : Auteur
PersonId : 12289
IdHAL : didier-rouxel
ORCID : 0000-0003-1935-2316
IdRef : 142411094

Institut Jean Lamour

CV

P. Pigeat

Fonction : Auteur

Domaines

Biomatériaux Matériaux Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

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Soumis le : dimanche 29 novembre 2020-17:53:54

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13

Dates et versions

hal-03030010 , version 1 (29-11-2020)

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HAL Id : hal-03030010 , version 1
DOI : 10.1016/j.tsf.2005.03.029

Citer

N. Bonasso, C. Petitot, Didier Rouxel, P. Pigeat. In situ control of AlCuFe thin film crystallization using optical pyrometry. Thin Solid Films, 2005, 485 (1-2), pp.8-15. ⟨10.1016/j.tsf.2005.03.029⟩. ⟨hal-03030010⟩

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