Non-thermal plasma etching of MOF thin films in high optical quality for interference sensing
| Origine | Fichiers produits par l'(les) auteur(s) |
|---|
Article Dans Une Revue
Optical Materials
Année : 2025
THIERRY BELMONTE : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.univ-lorraine.fr/hal-04717875
Soumis le : mercredi 2 octobre 2024-10:52:31
Dernière modification le : mardi 5 novembre 2024-08:56:16
Dates et versions
Licence
Identifiants
- HAL Id : hal-04717875 , version 1
- DOI : 10.1016/j.optmat.2024.115666
Citer
Pavel Alekseevskiy, Maria Timofeeva, Semyon Bachinin, Regis Peignier, Cedric Noel, et al.. Non-thermal plasma etching of MOF thin films in high optical quality for interference sensing. Optical Materials, 2025, 154, pp.115666. ⟨10.1016/j.optmat.2024.115666⟩. ⟨hal-04717875⟩
Collections
98
Consultations
2
Téléchargements