Dépôt chimique de zircone en phase vapeur par réaction entre ZrCl4 et une post-décharge micro-ondes Ar-O2-H2 en écoulement : diagnostic de la phase gazeuse, modélisation du réacteur et caractérisation des films

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Contributor : Thèses Ul <>
Submitted on : Thursday, March 29, 2018 - 1:08:02 PM
Last modification on : Monday, April 16, 2018 - 10:42:53 AM

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Jérôme Gavillet. Dépôt chimique de zircone en phase vapeur par réaction entre ZrCl4 et une post-décharge micro-ondes Ar-O2-H2 en écoulement : diagnostic de la phase gazeuse, modélisation du réacteur et caractérisation des films. Autre [cond-mat.other]. Institut National Polytechnique de Lorraine, 1996. Français. ⟨NNT : 1996INPL004N⟩. ⟨tel-01751144⟩

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